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盛普電源為您提供真空鍍膜行業全系列電源解決方案
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盛普系列高頻開關電源模塊技術優勢
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智能高頻開關電源，開關頻率高達40KHZ。
2 體積小，重量輕。
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3 電子高速滅弧。
4 脈寬調制技術，高效、高可靠性。
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5 模塊化設計，N+1備份。
6 有外部控制接口，可由微機或PLC控制。
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中頻磁控濺射電源
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1克服靶中毒、抑制靶面打火。
2可濺射金屬、半導體膜層。
3電子電抗，自動匹配負載。
4恒流輸出，不隨氣壓變化。
5工藝重復性好，提高成膜速度。 |
直流磁控濺射電源 |
1恒流輸出，不隨氣壓變化。
2抑制靶材弧光放電及抗短路功能。
具有極佳的負載匹配能力
3工藝重復性好，提高成膜速度，
實現高質量的濺射膜層。
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脈沖磁控濺射電源 |
1恒流輸出，不隨氣壓變化。
2工藝重復性好，提高成膜速度。
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脈沖偏壓電源 |
1自動穩壓。
2電子電抗，自動匹配負載。
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直流偏壓電源
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1自動穩壓。
2電子電抗，自動匹配負載。
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弧 電 源 |
1動態特性好，各種靶材都具有良
好的小電流維持特性。
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微機控制器
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1微機控制器采用80C196為核心。
2大屏幕液晶顯示工作、設定狀態。
3全中文顯示，界面友好。
4面板操作設定所有工作參數。
5可選擇的外部控制操作功能，并由干結點提供報警輸出。 |
離子源電源 |
1燈絲電源，自動穩流。
2陽極電源，穩壓限流。
3長狹縫電源，采用電子電抗，
自動匹配負載。
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